Bottom Anti Refective Coating)반도체 소자의 패턴 크기가 감소함에 따라 노광 공정이 진행되는 동안 반사율이 최소 1% 미만으로 유지되어야 균일한 패턴을 형성할 수 있으며, lithography를 이용한 패턴 형성 중 노광 시 막 하부층에 의한 빛 반사 방지 및 정제파 제거 용도의 흡광제와 이를 포함하는 유기 반사 방지막입니다.