光刻胶配方的作用机理是，在曝光工序中，光酸生成剂在接受光照后产生酸，该酸会引发光刻胶树脂的酸催化反应。对于正性光刻胶，会发生去保护反应，通过这种反应，曝光区和未曝光区在显影液中的溶解性不同，从而形成图案。