​Photoresist 조성물의 작용 기전은, 노광 공정에서 광원을 받은 광산 발생제에서 산이 형성되고 이 산이 Photoresist 수지의 산 촉매 반응을 일으킵니다. 이때 positive Photoresist 조성물은 탈 보호 반응이 일어나며, 이런 반응을 통해서 노광 된 부분과 노광이 안 된 부분의 현상액에 대한 용해도 차이를 갖게 하여 패턴을 형성하게 됩니다.