(顶部抗反射涂料) 随着半导体元件模型大小减少,在进行曝光工程时,反射率最低应维持1%以内,才能形成均等的模型,利用光刻技术形成模型中曝光时,在膜顶层处理反射防止膜,用于光致抗蚀剂內改善反射光及散射现象。
-环保安全; 无PFOS/PFOA问题-低折射率-pH值可控
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