本公司针对365nm波长,制造胶片厚度为0.1um至6.0um的工程适用i-线光致抗蚀剂产品。i-线光致抗蚀剂产品系列中,正型光致抗蚀剂与负型光致抗蚀剂均可生产。若您为开发项目,正寻找i-线光致抗蚀剂解决方案,可联系本公司,我们将提供有关产品系列的更加具体的数据。
-目标:厚度3.5um (Res. 1.5um & 3.0um, 1:1)-用途:注入层和金属层
-目标:厚度1.7um (Res. 500nm, 1:1)-用途:注入层和蚀刻层/OLED器件
-目标:厚度1.3um (Res. 500nm, 1:1)-用途:注入层和蚀刻层/OLED器件
-目标:厚度1.1um (Res. 500nm, 1:1)-用途:注入层和蚀刻层/OLED器件
-目标:厚度2.0um ~ 6.0um(体模)-用途:注入层和蚀刻层/OLED器件
-目标:厚度1.0um (Res. 500nm, 1:1)-用途:注入层和蚀刻层/OLED器件-
-目标:厚度6.0um (Res. 500nm, 1:1)-用途: : 注入层
-目标:厚度0.17um (Res. 500um, 1:1)-用途:钝化光刻胶
-目标:厚度0.1um (Res. 1.0um, 1:1)-用途:钝化光刻胶
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