Photo工程时使用的物质,显影剂工程后,利用D.I. water清洗时,为防止模式受损而使用的物质。
通过减少蚀刻后的倾盖来提高工艺裕度
-目标: LER的防塌与改进-用途:ArF光刻胶
-目标: LER的防塌与改进-用途:KrF光刻胶
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