-目标:厚度2.0um ~ 6.0um(体模)-用途:注入层和蚀刻层/OLED器件
-目标:厚度1.0um (Res. 500nm, 1:1)-用途:注入层和蚀刻层/OLED器件-
-目标:厚度6.0um (Res. 500nm, 1:1)-用途: : 注入层
-目标:厚度0.17um (Res. 500um, 1:1)-用途:钝化光刻胶
-目标:厚度0.1um (Res. 1.0um, 1:1)-用途:钝化光刻胶
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