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ArF Photoresist

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e630978e86cec1856577d8237bcf1cfc_1741848216_2605.png本公司针对193nm波长,制造胶片厚度为0.2µm至6.0µm的工程适用ArF光致抗蚀剂产品。

ArF光致抗蚀剂产品系列中,正型光致抗蚀剂与负型光致抗蚀剂均可提供,并具备适用于干式(Dry)及浸没式(Immersion)工艺的解决方案。

若您正在为开发项目寻找ArF光致抗蚀剂解决方案,可联系本公司,我们将提供有关产品系列的更加具体的数据。

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