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I-Line Photoresist

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c7198309c73dc37608c2a4225d460bd7_1734929388_9537.png本公司针对365nm波长,制造胶片厚度为0.1um至6.0um的工程适用i-线光致抗蚀剂产品。i-线光致抗蚀剂产品系列中,正型光致抗蚀剂与负型光致抗蚀剂均可生产。

若您为开发项目,正寻找i-线光致抗蚀剂解决方案,可联系本公司,我们将提供有关产品系列的更加具体的数据。

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