(顶部抗反射涂料) 随着半导体元件模型大小减少，在进行曝光工程时，反射率最低应维持1%以内，才能形成均等的模型，利用光刻技术形成模型中曝光时，在膜顶层处理反射防止膜，用于光致抗蚀剂內改善反射光及散射现象。