本公司针对248nm波长,制造胶片厚度为0.30um至12.0um的工程适用KrF光致抗蚀剂产品。KrF光致抗蚀剂产品系列中,正型光致抗蚀剂与负型光致抗蚀剂均可生产。若您为开发项目,正寻找KrF光致抗蚀剂解决方案,可联系本公司,我们将提供有关产品系列的更加具体的数据。
(Negative PR for 248nm process)-Target : Thickness 0.54um (Res. 180nm, 250nm)-Purpose of use : Implant & Etch Layer
(Negative PR for 248nm process)-Target : Thickness 0.30um (Res. 180nm)-Purpose of use : Implant Layer
(Positive PR for 248nm process)-Target : Thickness 0.54um (Res. 180nm, 250nm)-Purpose of use : Implant & Etch Layer
(Positive PR for 248nm process)
(Negative PR for 248nm process)
卷轴
上移