EUV Photoresist

  本公司针对13.5nm波长，制造胶片厚度为10nm至100nm的工程适用EUV光致抗蚀剂产品。
EUV光致抗蚀剂产品系列中，正型光致抗蚀剂与负型光致抗蚀剂均可提供，并具备高灵敏度（High Sensitivity）及低线边粗糙度（Low LER, Line Edge Roughness）优化解决方案。
若您正在为开发项目寻找EUV光致抗蚀剂解决方案，可联系本公司，我们将提供有关产品系列的更加具体的数据。