ArF Photoresist

本公司针对193nm波长，制造胶片厚度为0.2µm至6.0µm的工程适用ArF光致抗蚀剂产品。
ArF光致抗蚀剂产品系列中，正型光致抗蚀剂与负型光致抗蚀剂均可提供，并具备适用于干式（Dry）及浸没式（Immersion）工艺的解决方案。
若您正在为开发项目寻找ArF光致抗蚀剂解决方案，可联系本公司，我们将提供有关产品系列的更加具体的数据。