당사는 13.5nm 파장에 대해 필름 두께 10nm에서 100nm까지 다양한 공정 적용이 가능한 EUV Photoresist 제품을 제조합니다.

EUV Photoresist 제품군에서는 Positive Type과 Negative Type을 모두 제공하며, High Sensitivity 및 Low LER(Line Edge Roughness) 최적화 솔루션을 보유하고 있습니다.

프로젝트 개발을 위한 EUV Photoresist Solution을 찾고 계신다면, 당사에 문의해 주시면 제품에 대한 보다 구체적인 데이터를 제공해 드리겠습니다.