당사는 248nm 파장에 대해 필름 두께가 0.30um에서 12.0um인 공정적용을 위한 KrF Photoresist 제품을 제조합니다. KrF Photoresist 제품군에서 Positive와 Negative type Photoresist를 모두 제조합니다.프로젝트 개발을 위한 KrF Photoresist Solution 을 찾고 있는 경우 당사에 문의하면 제품에 대한 보다 구체적인 데이터를 제공하겠습니다.
(Negative PR for 248nm process)-Target : Thickness 0.54um (Res. 180nm, 250nm)-Purpose of use : Implant & Etch Layer
(Negative PR for 248nm process)-Target : Thickness 0.30um (Res. 180nm)-Purpose of use : Implant Layer
(Positive PR for 248nm process)-Target : Thickness 0.54um (Res. 180nm, 250nm)-Purpose of use : Implant & Etch Layer
(Positive PR for 248nm process)
(Negative PR for 248nm process)
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